氟化铈晶体抗辐照机理的探讨-发光学报.PDF
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18 4 Vol . 18 , No . 4
199712 CHINESEJOU RNALOFLUM INESCENCE Dec. , 1997
氟化铈晶体抗辐照机理的探讨*
胡关钦 冯锡淇 徐 力 殷之文
( , 201800)
3
CeO2 CeAc3 Ce d X
, X . CeF Ce ,
3
CeF .
3
, X ,
1 引 言
, ( 30 ns) ,
3 [ 1]
( 6 g/c ) , . ,
[2] 60 7
. - 3, 110 , 3
Co CeF rad CeF
5%. , CeF3.
CeF3Ce CeF3
.
2 实验和结果
3 3, , 10- 3 ,
N CeF Pa
3 202 , 2 35
Bridg an CeF CeO CeAc
N . X MK XPS , K
- 5
X ( 1.487 keV) , 10 Pa , .
1 3 . 1
Ce d XPS X
.
1CeO , CeAc CeF Ce 3d X
2 3 3
1 3 , .
Table Para eters of Ce d electron XPS of CeO2 CeAc3 and CeF3
A1 B1 C1
3d5/2 3d3/ 2 3d5/ 2 3d3/2 3d5/2 3d3/ 2
CeO2 898. 3 917.0 889.5 907. 8 883.2 901.7
CeAc3 887. 8 906. 3
CeF3 902. 8 912.5 886. 8 913.5 883.6 904.9
3 讨 论
. [3] 3 4
X
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