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Mn-Zn、Co2Z软磁铁氧体薄膜制备与磁性能的研究

的开题报告

【摘要】

软磁铁氧体薄膜在电子、信息、通讯等领域具有广泛应用。本文选

取Mn-Zn和Co2Z作为材料，采用射频磁控溅射技术制备软磁铁氧体薄

膜，并通过X射线衍射和扫描电子显微镜表征其晶体结构和形貌。在不

同制备条件下，对薄膜的磁性能进行测试，探究薄膜的磁性能与制备条

件之间的关系。

【关键词】软磁铁氧体薄膜；射频磁控溅射；磁性能；制备条件；

【正文】

一、研究背景

软磁铁氧体具有低矫顽力、低损耗的特点，在电子、信息、通讯等

领域具有广泛应用。传统的软磁铁氧体是通过压制、烧结等工艺制备得

到的，但这种制备技术的成本较高、生产周期较长，不利于大规模生产。

近年来，软磁铁氧体薄膜制备技术得到了快速发展，具有成本低、制备

周期短等优点。因此，研究软磁铁氧体薄膜制备及其磁性能具有重要意

义。

二、研究内容

选取Mn-Zn和Co2Z作为材料，采用射频磁控溅射技术制备软磁铁

氧体薄膜，并通过X射线衍射和扫描电子显微镜表征其晶体结构和形貌。

在不同制备条件下，对薄膜的磁性能进行测试，包括矫顽力、矫顽力峰

值、饱和磁感应强度等磁性能指标。并且，探究不同制备条件下薄膜的

磁性能之间的关系，为优化软磁铁氧体薄膜制备工艺提供依据。

三、研究方法

采用射频磁控溅射技术制备软磁铁氧体薄膜，并使用X射线衍射仪

和扫描电子显微镜对其晶体结构和形貌进行表征。对薄膜的磁性能进行

测试，采用电磁霍尔效应测试薄膜的矫顽力和矫顽力峰值，使用霍尔效

应测试器测试薄膜的饱和磁感应强度。并且，通过变化不同制备条件

（如沉积时间、沉积温度等）探究其对薄膜磁性能的影响。

四、研究意义

本研究将通过制备不同条件下Mn-Zn和Co2Z软磁铁氧体薄膜，探

究不同制备条件对薄膜磁性能的影响，为优化软磁铁氧体薄膜制备工艺

提供依据，具有一定的理论和实践意义。同时，本研究结果还可为软磁

铁氧体薄膜的应用提供技术支持。

【参考文献】

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