上腭微种植体间接支抗后牙受力的三维有限元分析的开题报告.docx

上腭微种植体间接支抗后牙受力的三维有限元分析的开题报告

一、研究背景与意义

种植体是目前大力发展的无牙颌修复技术之一，解决了单个或多个牙缺失的问题。然而，常在口腔环境中暴露的种植体（如后牙区的种植体）在受力方面存在一定的问题。特别是在某些条件下，例如缺失相邻牙或有骨质丧失的情况下，增大了种植体的受力，加重了种植体的失稳和破裂等问题。因此，如何保证亲铁质种植体的牢固性和稳定性是关键的问题。

上腭微种植体是种植体的常见种类之一，其直径通常小于1.8mm。一些临床研究表明，即使种植体的粗径可以增加固定，但微型种植体实现单个牙缺失修复的成功率仍非常高。因此，利用上腭微型种植体进行修复是备受欢迎的。本研究旨在通过有限元分析的方法，研究上腭微型种植体的间接支抗后牙受力，并期望为其应用临床实践提供科学依据。

二、研究内容和方法

（一）研究内容

本项研究将使用有限元分析方法研究上腭微型种植体间接支抗后牙在不同条件下的受力情况，主要包括以下内容：

1.建立上腭微型种植体周围的颌骨结构模型。

2.定义三维有限元模型，包括种植体、邻牙和周围颌骨组织。

3.模拟在正常咀嚼和非正常咀嚼状态下的力学模型。

4.分析支抗模式对种植体周围结构的影响。

5.研究不同种植体粗径对周围结构的影响。

6.分析邻牙缺失和周围骨量不足等情况下种植体支抗力受损的情况。

（二）研究方法

1.前期筹备工作

（1）收集上腭微型种植体间接支抗后牙相关文献和临床数据汇总。

（2）采集中颌骨计算机断层扫描（CBCT）图像数据。

（3）利用医学软件建立上腭微型种植体周围的颌骨结构模型。

2.建立三维有限元模型

（1）将颌骨结构模型转换为三维有限元模型。

（2）加入相应的边界条件和材料属性。

3.模拟咀嚼状态

（1）通过添加载荷，模拟正常咀嚼状态和非正常咀嚼状态。

（2）分析种植体周围结构的应力和位移分布特征。

4.分析支抗模式和粗径对支抗力的影响

（1）通过改变支抗模式和种植体粗径，研究其对种植体周围结构应力的影响。

（2）分析上腭微型种植体在不同情况下的应力分布规律。

5.研究邻牙缺失和周围骨量不足对支抗力的影响

分析邻牙缺失和周围骨量不足等情况下种植体支抗力受损的情况。

三、预期成果

（一）通过有限元分析研究上腭微型种植体在间接支抗后牙情况下的受力分布特点，为其在临床应用中提供相关的科学依据。

（二）研究支抗模式和种植体粗径改变对应力的影响，可为种植体的材料和粗径的选择提供参考。

（三）评估邻牙缺失和周围骨量不足等情况对种植体支抗力的影响，可为临床实践提供指导。

四、研究进度计划

阶段时间节点计划进度

第一阶段2021.4-2021.6文献调研和数据采集，颌骨结构模型构建，有限元模型建立。

第二阶段2021.7-2021.10模拟咀嚼状态分析，支抗模式和种植体粗径对应力分布的影响研究。

第三阶段2021.11-2022.1分析邻牙缺失和周围骨量不足的情况下种植体支抗力受损情况，论文撰写与提交。