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Nb掺杂SrTiO3阻变效应的扫描隧道显微镜(谱)研究的开题报告
一、研究背景和意义
阻变材料作为一种新兴的电子功能材料,在电子信息领域具有广泛的应用前景。另外,阻变材料具有非易失性、存储速度快、功耗低等优点,同样在存储器等领域应用前景广阔。要实现阻变效应,通常需要引入掺杂或缺陷等非完美因素,而掺杂是一种常用手段。
掺杂SrTiO3材料中掺杂Nb元素,是一种常见的阻变掺杂方法。此种阻变效应源于掺杂造成的局部电荷状态和结构畸变。然而,这方面的研究报道较少,因此需要深入探究其机理,为其应用提供理论基础。
扫描隧道显微镜(STM)作为一种高分辨率的表征手段,可以实现对掺杂材料表面原子分辨率的成像,结合谱学技术,可以对表面形貌和基本材料性质与表现出的电学特性进行定量分析。因此,利用STM技术对掺杂SrTiO3材料的Nb-阻变效应进行研究,可以深入揭示掺杂对SrTiO3材料基本电学性质的影响机制,为阻变材料的应用研究提供理论基础和实验数据支撑。
二、研究内容和目标
本论文旨在利用STM技术和谱学技术,结合基本电学测试手段,研究掺杂SrTiO3材料中掺杂Nb元素对阻变效应的影响机制。主要研究内容如下:
1、通过STM技术观察掺杂后SrTiO3材料中的表面物相变化、微观结构、表面形貌,探究掺杂对表面的影响机制。
2、通过透射电镜等手段对SrTiO3材料的整体微观结构进行分析。
3、通过I-V测试和磁场效应测试,探究掺杂对SrTiO3材料电学性质的影响。结合STM和透射电镜等分析手段,进一步分析阻变效应的机理。
三、研究方法和步骤
本论文主要采用如下研究方法和步骤:
1、SrTiO3样品制备:采用溶胶-凝胶法制备SrTiO3样品,并在样品中掺杂适量Nb元素。
2、STM观察:结合STM技术,观察SrTiO3样品表面形貌、微观结构以及表面原子分布情况,探究掺杂对表面的影响机制。
3、透射电镜分析:通过透射电镜等手段,对SrTiO3样品的整体微观结构进行分析,与STM观察结果进行对比分析,确定掺杂对材料的整体结构是否发生变化。
4、电学性能测试:采用I-V测试和磁场效应测试等手段,对SrTiO3样品进行测试,以研究掺杂对其电学性能的影响。
5、数据处理和结果分析:对实验数据进行处理,结合STM观察、透射电镜等分析结果,对阻变效应的机理进行分析和探讨。
四、研究预期成果
1、通过STM技术观测掺杂后SrTiO3材料表面的形貌、微观结构和表面原子分布情况,深入探究掺杂对表面的影响机制。
2、通过透射电镜分析,确定掺杂对SrTiO3材料整体结构的影响。
3、结合I-V测试和磁场效应测试,探究掺杂对SrTiO3材料电学性能的影响。
4、深入研究掺杂对SrTiO3材料阻变效应的影响机理,探讨阻变效应的本质。
五、进度安排
本论文的工作计划预计为两年,具体进度安排如下:
第一年:
1、完成SrTiO3样品的制备,进行STM观察和透射电镜分析,并初步探究掺杂对表面和整体结构的影响机制。
2、进行I-V测试和磁场效应测试,初步探究掺杂对SrTiO3材料电学性能的影响。
3、进行数据处理和分析,撰写论文初稿。
第二年:
1、进行更深入的STM观察和透射电镜分析,研究掺杂对SrTiO3材料的影响机制。
2、深入研究掺杂对SrTiO3材料电学性能的影响,并确定阻变效应的本质。
3、完成论文撰写和定稿,准备论文发表和答辩。
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