碳化硅可见光下光催化性能的研究的开题报告.docx

碳化硅可见光下光催化性能的研究的开题报告 一、研究背景 近年来，环境污染问题日益严重，环境保护已成为全球各国亟待解决的问题。其中，光催化技术被广泛应用于净化水和空气中的污染物。石墨烯、碳化硅等属于新型纳米材料，具有良好的光催化性能，因此特别适用于水和空气净化方面。 碳化硅是一种重要的新型半导体材料，常常被用于制备光催化剂。碳化硅结构特殊，具有良好的电子输运和光电转换性质，可以有效地利用可见光，因此具有重要的光催化应用价值。 二、研究目的 本文旨在研究碳化硅在可见光下的光催化性能，探究其对污染物去除率的影响因素，为制备高效的光催化材料提供理论和实践的基础。 三、研究方法 本研究将采用沉淀法制备不同的碳化硅光催化剂，并通过Uv-Vis、Xrd、SEM等技术对其进行表征；利用可见光下碳化硅催化有机染料脱附作为模型反应，考察不同碳化硅催化剂的光催化活性；通过改变碳化硅材料的表面修饰方法和控制不同反应条件等方式，探究其在光催化反应中的影响因素，如单体浓度、光照时间、pH值、添加剂等。 四、预期结果 通过制备不同形貌、尺寸和表面修饰的碳化硅催化剂，进而探究其光催化性能的优化方法，从而实现对有机染料的高效去除。同时，通过实验结果的分析，对碳化硅催化剂的性能进行综合评价，探究其光催化机理，为碳化硅的光催化研究提供理论基础。 五、研究意义 本研究可为制备高效的光催化剂提供一种新思路，同时也可为碳化硅在水和空气净化等领域的应用提供理论和实践的基础，具有一定的理论和实践价值。同时也可为传统污染物治理提供新型技术思路，为环境保护作出一定的贡献。