PECVD操作手冊中英文版.doc

操作手册 SINAL – 系统 氮化硅沉积系统（人工装载） 制造商: Roth Rau AG Gewerbering 3 D-09337 Hohenstein-Ernstthal, OT Wuestenbrand Germany 目录 1 引言 ... .4 1.1 应用和使用……4 1.2 硬件和软件的识别………………4 1.2.1 硬件…4 1.2.2 软件…7 1.3 主要元件的安装介绍…………………………7 2 一般的操作说明…………8 2.1 射频按钮8 2.2 按钮8 2.3 清单8 2.4 检验盒9 2.5 输入和输出框架………9 2.6 Tool tip9 3 开/关控制系统10 3.1 打开10 3.2 关闭10 4 功能描述和操作……………………11 4.1 标题12 4.2 信息线12 4.3 动态菜单13 4.4 静态菜单13 4.5 图象区域14 5 标准功能………16 5.1 系统16 5.2工艺参数……19 5.3 气体系统23 5.4 参数26 5.4.1 系统参数26 5.4.2 工艺参数30 5.4.3 气体参数33 5.5 配方35 5.6 趋向39 5.7 协议42 5.8 上升率测试…43 5.9 外盖控制…44 5.10 控制44 5.11 泵46 5.12 人工传输……48 6 维护50 6.1 测试点………50 6.1.1 主要分布51 6.1.2 机械节点A254 6.1.3 机械节点A356 6.1.4 等离子源58 6.1.5 传输系统59 6.1.6 气体系统61 6.2 登录和退出…62 6.3 用户管理………63 6.4 诊断 (只针对有权限人员)64 7 信息列表65 8 故障检修67 1 Introduction 引言 Application and use 应用和使用 ‘SiNA L system’ is a control system for surface coating systems. It works as a continuous flow controller with 5 process chambers. The following list shows its functionality at a glance: ‘SiNA L 系统’是一种表面镀膜控制系统。有5个工艺腔室，连续流动控制的工作方式。以下是它的功能列表： Full graphical representation of the system layout and the current process sequence as well as display of all aggregate conditions and process status conditions. 全部图像表示系统布局、当前工艺次序、并显示所有总体状况和工艺状态。 Full graphical trend functions for present values as a process-related trend. 针对工艺相关趋势的当前数值，系统具有全部的图像趋向功能。 Charge-based data recording 基于装料的数据记录。 Operation in the following modes: 运行于以下模式： Process mode for automatic operation with full recipe management, online parameter settings and protocol function 工艺模式：自动操作，带有全部配方管理，在线参数设定和协议功能。 Service mode for supporting system startup, troubleshooting, system and controller configuration using machine parameters 维护模式：支持系统启动，故障诊断，使用机器参数进行系统和控制器布局。 1.2 Identification of hard- and software 硬件和软件的识别 1.2.1 Hardware硬件 The control software for the SiNA L system is installed on an industrial PC (Intel Celeron 2.66 GHz, 256 MB RAM, 80 GB Seagate HD