釉面瓷砖表面TiO,2光催化薄膜的制备及其光催化性能分析.pdf

i 釉面瓷砖表面T0：光催化薄膜的制备 及其光催化性能研究 摘要 f ／半导体光催化技术因其能降解污染物而成为一个被广泛研究课 ＼ 题。光催化技术的主要特点在于它能够以廉价、简单方便的方式降解 大部分有机和部分无机废水，并且最终能把污染物降解成水、二氧化 碳和相应的无害无机物等。目前，半导体二氧化钛是最广泛被人研究 的金属氧化物。它的优势在于对环境无害，在水环境里稳定和相对廉 价的特点，但是Tio：粉末难分离回收仍然是面临的问题l垂妄茬葙面 ， 瓷砖表面成功的制备纳米二氧化钛薄膜，研究了制备工艺各参数与二 氧化钛晶体形貌结构，对该材料的光催化活性和光催化性能进行了有 益的探索。 本文是采用溶胶一凝胶法在瓷砖釉面制备光催化二氧化钛薄膜 材料，研究了升温速度、干燥时间、保温时间、焙烧温度、镀膜层数、 潮解时间、潮解方式等工艺参数对光催化活性的影响。实验研究表明 间为120分钟、焙烧温度为540。c、干燥时间为5分钟、镀膜层数为 5层、潮解时间为1分钟、潮解方式为垂直式时在釉面瓷砖表面所制 RESE√状CHONTHEpREn气Rp口IONOF T102 FILM ONTHE CERAⅫCSI疆tFACEA》江)ITS PHoj◇C掀“莨CAC髓Vl彳y ABSTRACT Semiconductorasamethodfor photocatalysis destroyingpollutants hasbeen researched．Theof liesin extensively importancephotocatalysis thefactthatitcan a andconvenient provide potentiallyinexpensive to methodtreat and contaminantsand organicinorganic eventually these to dioxideandharmless degrade water,carbon compounds matters ametal is oxidesemiconductorthathasbeen inorganicetc．。Ti02 most has of to the investigated harmless extensively．Itadvantagesbeing in environmentsaswellas environment，stable aqueous