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一种193nm湿法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用.pdf

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116082609 A (43)申请公布日 2023.05.09 (21)申请号 202111307595.1 (22)申请日 2021.11.05 (71)申请人上海芯刻微材料技术有限责任公司地

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