手套箱等设备技术参数.doc

高真空磁控溅射仪 序号 主要技术要求及配置要求 1 设备名称及采购数量：高真空磁控溅射仪1台 一、技术参数： 　　1、系统全自动控制方式，具有一键式配方自动功能和参数以及程序的自动控制。 　　★2、溅射室极限真空度：≤7×10-6 Pa（经烘烤除气后），系统从大气开始抽气到6.0×10-4 Pa≤25分钟； 　　3、系统真空检漏率：≤5.0×10-8 Pa.L/S； 　　4、系统停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa； 　　★5、沉积阴极：数量：3个，共焦成膜（溅角度可调），分布在一个圆周上，各阴极可独立/顺次/共同工作，阴极安装在一个CF300法兰上，可拆卸； 　　★6、基片台：放置最大4英寸样品1片，样品安装在一个CF300法兰上。加热温度从室温到500°C，转动速度0-30转/分连续可调，不均匀度为≤±4%（以镀膜金属薄膜进行验收，镀金属膜厚度约200 nm）； ★7、真空获得采用进口磁悬浮复合分子泵（抽速不低于680 L/S，压缩比（N2） 1×1011）和优质机械泵（抽速不低于9 L/S）及气动插板阀组合实现； 　　★8、真空测量采用进口inficon复合规进行测量。 二、配置要求： 　　1、真空获得系统1套，含德国进口分子泵1套、直联式旋片泵 1套 　　2、真空测量系统1套 　　3、电控系统1套，500 W直流溅射电源、进口1000 W全自动匹配射频电源及匹配器1套 　　4、样品台组件1套，含进口单探头膜厚监测仪1套 　　5、台架、水气路、备件等1套 　　6、设备验收用的标准金属靶材3种：Au靶1个（2 mm厚）；Pt靶1个（2 mm厚）； Ag靶5个（2 mm厚）。 2 设备名称及采购数量：CVD系统1台 一、技术参数： 　　★极限真空度：≤7×10-5 Pa 经烘烤除气后 ，系统从大气开始抽气到6.6×10-4 Pa≤40分钟； 　　系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7 Pa.l/S； 　　沉积工作真空：10-1300 Pa； 　　停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa； 　　★真空获得采用进口磁悬浮复合分子泵（抽速不低于680 L/S，压缩比（N2） 1×1011）和优质机械泵（抽速不低于9 L/S）及气动插板阀组合实现； 　　喷淋头尺寸：≥200×200 mm，喷淋头与样品之间电极间距20-80 mm连续可调； ★样品加热最高加热温度≥400 ℃，采用进口控温表，温控精度±1 °C； ★膜厚不均匀性：≤±3%（Φ100 mm范围内）； 　　气路设有匀气系统，保证抽气均匀； 　　★进口射频电源：频率13.56 MHz，最大功率500 W，全自动匹配； 　　使用5个质量流量控制器控制SiH4、NH3、O2、N2、H2五路气体的进气。 　　系统设有硅烷尾气处理系统（高温裂解方式）。 二、配置要求： 　　真空获得系统1套，含进口分子泵1套、直联式旋片泵1套 　　真空测量系统1套 　　电控系统1套，含进口射频电源及匹配器（500 W，13.56 MHz ）1套 　　热丝架1套 　　样品台组件1套 　　台架、水气路、备件等1套 ：加部分偏离