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光化学刻蚀流程.pptx

发布:2024-12-29约小于1千字共27页下载文档
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光化学刻蚀流程;REPORTING;01;;高精度;应用领域及前景;02;实验材料与设备选择;采用有机溶剂或碱性清洗液去除半导体表面的油污和杂质。;;03;根据材料特性选择适当波长的激光光源,如紫外光、可见光或红外光。;半导体与电解质接触方式;安全措施;04;显微镜观察

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