彩色滤光片原理.ppt

彩色濾光片製造方法的分類色料着色方法成膜方法制造名称染料染色光学微影单层法(染色法)多层法染料分散光学微影蚀刻法彩色感光材料法印刷其他喷墨(InkJet)法颜料颜料分散光学微影蚀刻法彩色感光材料法转印法印刷凹版印刷法平版印刷法网版印刷法电镀光学微影其他电子照相法激光燒成法第31页,共60页，2024年2月25日，星期天CF颜料分散法制程图示第32页,共60页，2024年2月25日，星期天

着色感光材料法着色感光材料法是将颜料分散在微粒透明感光性树脂中，形成着色感光材料，進行涂布→曝光→显影，將R、G、B重复进行三次形成电极图案的方法。原理是采用光学微影(lithography)方式，所以设备也以涂布设备、曝光设备、显影设备为主。色相特性、颜料选择、微细化程度与感光材料分散方法等都是由涂布膜厚所決定。与同為光学微影式染色法相比，染色制程中的防染处理制程较为简化，但在曝光制程方面，由于着色感光材料的颜料会吸光，所以必须选用高感度的感光性树脂及曝光源。第33页,共60页，2024年2月25日，星期天蚀刻(Etching)法蚀刻法是利用蚀刻形成着色树脂层，着色树脂是将颜料分散在聚合树脂(Polyimide)中。先将着色树脂涂布在玻璃基板上，烘干固化后涂布光阻，进行曝光、显影。由于蚀刻法需增加光阻涂布与显影剥离等制製程，制程数较着色感光材料法多。第34页,共60页，2024年2月25日，星期天

转印法转印法是将颜料分散树脂溶液涂布在薄膜上并进行干燥。利用此种涂布方法将涂在薄膜上的著色材料利用转印设备转印到玻璃基板后进行曝光、显影來形成象素。反复进行转印、曝光、显影制程形成RGB彩色层与黑色矩阵。由与形成原理是採光学微影方式，设备基本上与着色感光材料法相同。而且R、G、B各象素有遮蔽UV光功能，一般的黑色矩阵是利用背面曝光法來進行。第35页,共60页，2024年2月25日，星期天WhatisITO? ITO=IndiumTinOxide 90wt.%In2O3-10wt.%SnO2第36页,共60页，2024年2月25日，星期天ITO原理1968年荷兰PHILIPS公司的技术人员在偶然的试验中发现在铟化物表面上噴洒氯化锡液体，得到3×10-4Ω.㎝的低电阻系数的透明导电薄膜后，ITO的研究就一直是各大公司的热点。ITO，铟锡氧化物，这个名词原本应该叫做Tin-dopedIndiumOxide，即掺杂锡之铟氧化物。因专业习惯简称：IndiumTinOxide（ITO），使之成为专业用语。第37页,共60页，2024年2月25日，星期天ITOSputteringProcess:1、功能：提供液晶上电场之透光金属膜此膜必须具备表面平滑性及元件可靠度与着色层之成型方法有关并利用压克力树脂与环氧树脂作为保护膜第38页,共60页，2024年2月25日，星期天ITOSputteringProcess:2、材料特性：采用电浆溅镀法ITO：IndiumTinOxide（铟锡氧化物）ITO膜厚度0.15μm，表面电阻20~30Ω/????第39页,共60页，2024年2月25日，星期天ITOSputteringProcess:目前平面现示器几乎都是使用ITO膜，主要理由：具有低电阻(氧化锡导电能力强)高透光率(氧化铟透过率高)蚀刻容易适合大面积制作第40页,共60页，2024年2月25日，星期天溅镀示意图第41页,共60页，2024年2月25日，星期天电浆溅镀法透明片视为CF基板第42页,共60页，2024年2月25日，星期天ZnO:Al膜作为ITO代替材料ITO的原料In是稀有金属，近年需求量的激增，至2005年其市价已经超过1,000美元／kg。ZnO系是廉价又资源丰富的材料，也没有毒性，根据实验显示阻抗值和ITO相同，被认为是代替ITO的有力候补材料。ZnO的透明导电性很久前就广为所知，还进行了低抵抗化所需添加物的研究。添加了Al后的ZnO膜（ZAO膜）得到了190μΩcm的低阻抗结果，显示了作为材料的可能性。考虑到成品的特性，目前无法采用减少In材料来达到降低成本，ZAO虽然阻抗率不及ITO，但穿透率却超过了ITO，同时也可以进行蚀刻，稍待时日就有可能代替ITO。第43页,共60页，2024年2月25日，星期天什么是Photospacer？spacer主要是提供上下两层玻璃的支撑,?它必须均匀的分布在玻璃基板上,?不然一但分布不均