重庆大学本科毕业设计金属表面硅烷化处理工艺中清洗槽设计.doc

重庆大学本科学生毕业设计（论文） 金属表面硅烷化处理工艺中清洗槽设计 学 生： 学 号： 指导教师： 专 业： 重庆大学化学化工学院 二O一三年六月 Graduation Design(Thesis) of Chongqing University Design of rinse tank in silicon alkylation treatment process of metal surface Undergraduate: Supervisor: Major: College of Chemistry and Chemical Engineering Chongqing University June 2013 摘 要 传统的硅烷化处理工艺中的清洗槽，一般都是喷淋冲洗或是浸渍溢流的方式进行清洗的，这种清洗方法不能有效的清洗异形工件死角的杂质离子，本设计是在传统工艺的基础上，主要针对提高对异形工件的清洗率而对硅烷化处理工艺中清洗槽的设计与优化。 对硅烷化处理工艺中清洗槽的设计与优化是为了减小钝化液残余液中,等离子对硅烷化处理工艺的影响，提高工作效率。本实验通过在清洗槽里加电场，在电场的作用下，加快阴阳离子的移动速率，减少了清洗时间，提高了清洗效率；通过测试金属工件表面钝化液的百分含量对硅烷化处理工艺的影响；接下来，对电压、电解时间、两极间距离以及屏蔽接地线等电场条件的优化；最后对清洗槽水的循环利用进行优化改进。 以上清洗槽的设计与优化同时用电导率与钠离子电极两种方法来测定清洗液中钝化液的含量，计算了清洗率，分析了清洗效果，结果表明：两种方法基本上是一致的，都说明了电场的存在明显提高了清洗效果，使电场的有效性更加具有说服力。并且用电导率与钠离子电极两种方法对电解条件，以及清洗槽水的循环利用进行了优化与改进，效果比较明显，进一步提高了生产效率，降低了成产成本。 关键词：清洗槽，电场，设计与优化，硅烷化处理 ABSTRACT 目 录 TOC \o 1-3 \h \u HYPERLINK \l _Toc29292 摘 要 PAGEREF _Toc29292 I HYPERLINK \l _Toc23708 ABSTRACT PAGEREF _Toc23708 II HYPERLINK \l _Toc26586 目 录 PAGEREF _Toc26586 III HYPERLINK \l _Toc27108 1 绪论 PAGEREF _Toc27108 - 1 - HYPERLINK \l _Toc13544 1.1 硅烷化处理技术的国内外研究现状 PAGEREF _Toc13544 - 2 - HYPERLINK \l _Toc27427 1.1.1 国外研究现状 PAGEREF _Toc27427 - 2 - HYPERLINK \l _Toc8846 1.1.2 国内研究现状 PAGEREF _Toc8846 - 3 - HYPERLINK \l _Toc20013 1.2硅烷偶联剂 PAGEREF _Toc20013 - 4 - HYPERLINK \l _Toc29981 1.2.1硅烷偶联剂的结构 PAGEREF _Toc29981 - 5 - HYPERLINK \l _Toc25750 1.2.2硅烷偶联剂作用机理 PAGEREF _Toc25750 - 5 - HYPERLINK \l _Toc1084 1.3 硅烷化处理工艺 PAGEREF _Toc1084 - 8 - HYPERLINK \l _Toc19013 1.3.1 金属预处理 PAGEREF _Toc19013 - 8 - HYPERLINK \l _Toc31662 1.3.2成膜工艺 PAGEREF _Toc31662 - 8 - HYPERLINK \l _Toc17818 1.3.3成膜原理 PAGEREF _Toc17818 - 9 - HYPERLINK \l _Toc21324 1.3.4硅烷化处理工艺流程 PAGEREF _Toc21324 - 9 - HYPERLINK \l _Toc5637 1.4水洗工艺 PAGEREF _Toc5637 - 9 - HYPERLINK \l _Toc16351 1.5实验的内容与意义 PAGEREF _Toc16351 - 10 - HYPERLINK \l _Toc3059 1.5.1实验内容 PAGEREF _Toc3059 - 10 - HYPERLINK \l _Toc11198 1.5.2实验意义 PAGEREF _Toc11198 - 11 - HYPER